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云龙-FNY-100G ALD

单次处理100克微纳颗粒的原子沉积包覆设备
利用的离心式旋转分散设计

云龙-FNY-100G ALD Technical Specifications

系统配置

 

1.尺寸 (长 x 宽 x 高)

单体 1200mm x 1200mm x 1850mm

包括

2.重量 (KG)

单体 287Kg

 

3.电源

单体 14kW/37A/380VAC

 

4.基础系统功能及配置

微纳颗粒的原子沉积包覆设备

 

基本功能

可在微纳颗粒样品上实现 ALD膜层 生长工艺

 

样品重量

克级别粉末,优化工艺一般推荐 100g 以内

 

工艺温度

工艺温度范围从室温到 300°C

 

工艺配件

配备 ALD 工艺套件,具有高温密封和优化气流设计

 

5.特色

内外腔体设计, 可自动运行 ALD 静态及动态模式

包括

 

专利设计的可拆卸式旋转反应釜,实现工艺中粉体的均匀分散,易于清洗及操作, 保证工艺重复性

包括

 

最高工艺温度 300 °C,为多膜系研发开发设计

包括

 

多阀组设计,实现最佳前驱体输送控制, 保证可重复性和易于维护

包括

 

共 4 路固体液体源, 2 路反应气体,专有的 ALD 源及 ALD 高温全自动 自清洁阀组

包括

 

多道安全控制, 可编辑配方,完整的数据记录和易于使用的 GUI 界面

包括

 

多种定制化选项

可选

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产品详情

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