网站首页    CVD设备    蟠龙-LNY-20KG CVD
图片5

蟠龙-LNY-20KG CVD

单次处理20公斤微纳颗粒气相沉积包覆设备
可高温上下料
利用流化床分散设计

蟠龙-LNY-20KG  CVD Technical Specifications

系统配置

 

1.尺寸 (长 x 宽 x 高)

单体 5550mm×2320mm×5310mm

包括

2.重量 (KG)

单体 8300Kg

 

3.电源

单体 88KW  380 VAC   180A

 

4.基础系统功能及配置

微纳颗粒气相沉积包覆设备

 

基本功能

可在微纳颗粒样品上实现 气相原子层沉积  膜层生长工艺

 

样品重量

克级别粉末,优化工艺一般推荐 20kg 以内

 

工艺温度

工艺温度范围从室温到 900°C

 

工艺配件

配备 气相沉积包覆工艺套件,具有高温密封和优化气流设计

 

5.特色

高温反应腔体设计, 可自动运行流化

包括

 

底部搅拌系统,实现工艺中粉体的均匀分散,易于清洁及操作, 保证工艺重复性

包括

 

最高工艺温度 900 °C,为多膜系研发开发设计

包括

 

有上下料罐设计,可以实现自动连续的加工和实验

包括

 

共 4 路气体注入管道, 可以注入3种不同工艺气体,有惰性气体冲洗设计,可以避免危险气体在管道内的残留

包括

 

多道安全控制, 可编辑配方,完整的数据记录和易于使用的 GUI 界面

包括

 

多种定制化选项

可选

13247166003

产品详情

返回列表