云龙-LAY-500G ALD
单次处理500克微纳颗粒的原子层沉积包覆设备
利用流化床分散设计
利用流化床分散设计
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云龙-LAY-500G ALD Technical Specifications |
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系统配置 |
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1.尺寸 (长 x 宽 x 高) |
单体 1200mm x 1200mm x 1850mm |
包括 |
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2.重量 (KG) |
单体 267Kg |
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3.电源 |
单体 14kW/37A/380VAC |
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4.基础系统功能及配置 |
微纳颗粒的原子层沉积包覆设备 |
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基本功能 |
可在微纳颗粒样品上实现 ALD膜层 生长工艺 |
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样品重量 |
克级别粉末，优化工艺一般推荐 500g 以内 |
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工艺温度 |
工艺温度范围从室温到 300°C |
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工艺配件 |
配备 ALD 工艺套件，具有高温密封和优化气流设计 |
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5.特色 |
内外腔体设计， 可自动运行 ALD 静态及动态模式 |
包括 |
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专利设计的可拆卸式流化反应釜，实现工艺中粉体的均匀分散，易于清洗及操作， 保证工艺重复性 |
包括 |
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最高工艺温度 300 °C，为多膜系研发开发设计 |
包括 |
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多阀组设计，实现最佳前驱体输送控制， 保证可重复性和易于维护 |
包括 |
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共 4 路固体液体源， 2 路反应气体，专有的 ALD 源及 ALD 高温全自动 自清洁阀组 |
包括 |
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多道安全控制， 可编辑配方，完整的数据记录和易于使用的 GUI 界面 |
包括 |
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多种定制化选项 |
可选 |
